半导体和微电子

戈我手艺为全部敏感的制造流程带来前进。

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跟着半导体的尺寸愈来愈小,关于工艺纯度的需求也络续提拔。戈我供应垫片、过滤器和电缆,连结工艺的纯度,别的另有 EUV 光刻手艺的全新开辟结果,资助制造商为未来做好预备。

概述

微芯片能够做到多小?数十年以来,跟着智能手机、笔记本电脑、LED屏幕和其他电子产品的微芯片愈来愈小,手艺行业的制造商络续紧缩半导体的尺寸。半导体的线宽曾经从微米挤压到了纳米级别,同时借实现了更高的处置惩罚才能和影象才能。一纳米是一米的十亿分之一,100,000纳米并排才有人类头发直径粗细。 

那是摩尔定律的根蒂根基,即一个集成电路上的晶体管数目每两年就会翻一番。戈登·E·摩尔于1965年提出了这个勇敢的说法,而时至今日,那条定律皆一向见效。

然则,摩尔定律会继承有用吗?能够有两个题目会拖慢半导体的生长脚步:消费更小、更壮大的半导体本钱奋发,制造和加工半导体时需求更高的纯度。极小的外界微粒便能够对这些微观半导体形成火缺点;而如许的缺点能够低落良率,需求本钱奋发的保护工夫。 

简而言之:跟着半导体线宽缩小,生产成本和纯度难度会愈来愈下。

长期以来,戈我一向是络续打破这些应战的手艺公司的合作伙伴。我们供应高流率的过滤器、微过滤介质、电缆和种种密封解决方案,保障工艺无缝、安全地停止。我们的聚四氟乙烯(PTFE)质料呈化学惰性,经久耐用,可为半导体制造商供应无可置疑的纯度。

手艺行业依靠聚四氟乙烯(PTFE)等露氟聚合物实现干净度和化学兼容性。跟着半导体进一步缩小,制造商将需求正在应用聚四氟乙烯(PTFE)薄膜立异方面获得资助,以便让微芯片变得更智能、更快、更小——而戈我曾经找到了知足那一需求的要领。

着眼将来:EUV 微影手艺电缆

半导体的下一个严重新兴科技是近紫外(EUV)微影手艺,这类工艺能够正在半导体晶圆中刻写更多电路。正在光刻手艺体系中,光芒将图象传输到硅上,便犹如照相机应用光芒将图象传输到胶片上一样。EUV光刻手艺被视作计算机芯片的将来;其能够发生更短的波长,许可正在一个芯片上包容更多电路。

固然半导体行业仍旧需求消弭那一新要领带来的应战,但戈我正在放眼将来。2009 年,一家光学系统制造商委任戈我为临时合作伙伴,以便为EUV光刻手艺体系运转所必不可少的超高真空、高压和超清洁情况供应实用的电缆组件。 

由于我们从晚期即投入开辟新EUV工艺运用的电缆讨论,我们正在制造商采用新方法时曾经做好了辅佐预备。GORE®电缆低落了集尘题目,提拔了系统性能和良率;无屏障和化学惰性的电缆是专门针对洁净室运用而设想的。我们针对EUV光刻手艺的全新系列电缆组件具有超低释气率,可防止超高真空情况下的组件遭到能够致使凝聚并净化计算机芯片的排放气体的危险。我们的电缆质量出众,使戈尔成为市场上少数几家可为EUV光刻手艺供应干净和测试产物的公司之一。 

纵然有些制造商还没有预备好采用EUV光刻手艺,戈尔也供应种种实现下机能、下清洁的电缆,包孕针对加工装备、测试和丈量和集成的下柔性、下数据率和微波射频电缆。

基于纯度的产品组合

因为半导体尺寸极小,纵然最细微的净化也能够损伤其机能。 

戈我的质料能让半导体加工情况连结清洁。经由过程接纳聚四氟乙烯(PTFE)作为根蒂根基,我们的质料呈化学惰性,可耐受极度温度,而且经久耐用。我们的产物广泛比竞争对手的产物更小、更沉,是提拔工艺良率和削减停机工夫,和本钱的着名产物。

除电缆和电缆组件以外,我们借供应:

  • 高流率、下保存率的液体过滤器,可滤出高纯度的火、下纯度的化学品和工艺点质料。从制造到运用或分销阶段全过程,这些过滤器能够提拔净化液体的完整性,借可供应嵌入式保存晋级,而无需捐躯工艺效力。
  • 用于磁盘驱动器的粒子过滤器,自动珍爱手机、全球定位系统(GPS)、笔记本电脑等产物免受外界微粒、蒸汽和化学品的影响。
  • 微滤过滤介质,供应薄膜和层压两种情势,能够集成到种种过滤外壳体系中。这些介质可支撑现今微电子行业机能最高的过滤器。
  • 屏障解决方案,比方板状垫片、密封垫片、带状垫片和GORE®接口密封件。每种产物均完整以膨体聚四氟乙烯(ePTFE)制造,具有高抗蠕变和抗冷流机能,因而将一向连结流动,牢靠密封。

30多年来,戈我一向是环球技术创新抢先企业的重要合作伙伴,为下尺度、严要求的工艺供应戈我品格的纯度。跟着行业络续顺应手艺趋向的转变——智能手机和可穿着装备愈来愈小,需求最小的半导体芯片——我们也将络续立异,背手艺公司供应要害的产物和支撑,资助他们缩小产物,提拔利润。

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